中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主asml（阿斯麦）中国区总裁沈波参加，他出面解答了一些媒体关心的话题。
尽管umc（联电）和globalfoundries（格罗方德，格芯）先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发，但asml依然对euv光刻机的前景表示乐观。
此前有消息指出，中芯国际（smic）今年已向asml订购了一台euv光刻机，预计明年交付，用于7nm节点。
同时，传统的沉浸式光刻机方面，沈波称，今年下半年asml已开始出货家族最先进的nxt：2000i，很快会在中国市场上也见到。
另外，媒体早先有报道称，长江存储、上海华虹半导体分别向asml订购了193纳米浸没式光刻机和193纳米双工件台沉浸式光刻机nxt：1980di，分别用于存储芯片制造、晶圆代工。
据悉，asml今年一二季度的财报显示，大陆市场的销售收入占比达到了20％左右，已与美国持平，且超过了台湾地区。
asml今年的euv光刻机产能将达到20台，明后两年将逐步提升到40台。
来源：快科技
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