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芯片制造速度起飞!台积电、新思科技首次采用nvidia计算光刻平台:最快加速60倍

2024-05-20 14:00 来源: 作者/编辑: 浏览次数:6230 手机访问 使用手机“扫一扫”以下二维码,即可分享本文到“朋友圈”中。

3月19日消息,gtc 2024大会上,nvida正式宣布,为加快下一代先进半导体芯片的制造速度并克服物理限制,tsmc (台积电)和synopsys(新思科技)将在生产中率先使用nvidia计算光刻平台。

众所周知,台积电是全球晶圆代工厂,而新思科技则是芯片到系统设计解决方案企业。二者已经将 nvidia culitho加速计算光刻光平台,集成到其软件、制造工艺和系统中,在加速芯片制造速度的同时,也加快了对未来最新一代nvidia blackwell架构gpu的支持。

在现代芯片制造过程中,计算光刻是至关重要的一步,是半导体制造中最苛刻的工作负载,需要大规模的数据中心,而随着时间的推移,硅小型化演进过程呈指数级放大了计算的需求。

如果使用cpu来计算,每年需要在计算光刻上消耗数百亿个小时。比如一个典型的芯片掩模,就需要3000万小时或更长时间的cpu计算时间。借助加速计算,350个nvidia h100 gpu现在可以取代40,000 cpu 系统,从而缩短生产时间,同时降低成本、空间和功耗。

据悉,nvidia的计算光刻平台可以将半导体制造最密集的计算工作负载加速40-60倍。

nvidia还推出了新的生成式ai算法,该算法将进一步增强culitho的效率,与当前基 cpu计算的方法相比,极大地改进了半导体制造工艺。

“计算光刻是芯片制造的基石,”nvidia创始人兼ceo黄仁勋说。“我们与台积电和新思科技合作在culitho上工作,应用加速计算和生成式人工智能,为半导体扩展开辟了新的领域。”

来源:快科技

以上是网络信息转载,信息真实性自行斟酌。

 
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