之前有消息称，台积电正在筹集更多的资金，为的是向asml购买更多更先进制程的euv光刻机，而这些都是为了新制程做准备。
在不久前举办的线上活动中，欧洲微电子研究中心imec首席执行官兼总裁luc van den hove在线上演讲中表示，在与asml公司的合作下，更加先进的光刻机已经取得了进展。
luc van den hove表示，imec的目标是将下一代高分辨率euv光刻技术高na euv光刻技术商业化。由于此前得光刻机竞争对手早已经陆续退出市场，目前asml把握着全球主要的先进光刻机产能，近年来，imec一直在与asml研究新的euv光刻机，目前目标是将工艺规模缩小到1nm及以下。
目前asml已经完成了nxe:5000系列的高na euv曝光系统的基本设计，至于设备的商业化。要等到至少2022年，而等到台积电和三星拿到设备，之前要在2023年。
与此同时，台积电在材料上的研究，也让1nm成为可能。台积电和交大联手，开发出全球最薄、厚度只有0.7纳米的超薄二维半导体材料绝缘体，可望借此进一步开发出2纳米甚至1纳米的电晶体通道。
据悉，台积电正为2nm之后的先进制程持续觅地，包含桥头科、路竹科，均在台积电评估中长期投资设厂的考量之列。
来源：机智网
以上是网络信息转载，信息真实性自行斟酌。
）
