德国xtreme technologies gmbh日前宣称在提高euv光源的功率输出上超越了目标，以寻求将甚euv微影导入到芯片制造。xtreme声称在原理实验中，从计划一开始的大约120瓦，研制出800瓦功率的euv光源。对于量产中的euv，功率输出到2010年左右必须要达到接近1千瓦。

euv微影可望成为下一代芯片加工技术，采用13纳米波长的流明，使芯片制造商能在集成电路上印刷32纳米及更小的特色尺寸。xtreme是lambda physik ag和jenoptik的合资企业。lambda physik的股份于2005年被日本的ushio公司收购。为期36个月的该计划属于被称为more moore的欧洲euv计划的一部份，于2004年初激活，由荷兰的asml公司负责。

尽管面临许多包括功率输出和光学在内的技术挑战，euv仍然不断取得进展。carl zeiss smt表示，已向asml提供了首套针对euv微影的光学系统。asml正开发两套alpha euv微影工具，以在第二季分别提供给比利时的imec研究中心和纽约albany大学纳米技术分校。

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