这几年的半导体都技术发展开始陷入困境，制程更新也变得越来越慢。从intel的22nm制程完成之后，摩尔定律就开始失效，制程更新速度也变得越来越慢。按照摩尔定律，英特尔在2013年就要推出14nm的处理器，2015年就要退出10nm的处理器。不过按照目前的情况来看，英特尔的14nm在2015年才开始推出，而10nm则被推迟到今年上半年。

英特尔处理器

宣称要在今年量产10nm的半导体晶圆代工厂有台积电、三星和英特尔。在不久之前，台积电、三星两家都曝出了10nm制程良率不佳，量产也变得有些尴尬。在近日，国外财经杂志barrons.com爆料称英特尔在10nm量产的过程中也遭遇了良率不佳的问题。

准备在2017年采用10nm工艺的厂商非常多，除了英特尔新一代的cannonlake之外，海思麒麟、高通骁龙、联发科x30等尖端科技科技厂商都将使用10nm工艺，一旦良率不佳，将会导致桌面级、移动处理器的大面积缺货，甚至引发行业恐慌。

光刻机

其实在转进到10nm制程过程中，光刻技术的限制就开始凸显。因为目前主流的193nm光刻技术已经走到尽头，目前只能依赖多重曝光来实现制程工艺的微缩。虽然这两年的euv光刻机开始出货，不过euv光刻也只能坚持到5nm制程，再后面要如何继续更新制程目前还没有明确的工艺技术。

良率低不仅仅会影响到10nm制程设备的出货，同时可能会让7nm乃至5nm制程研发期加长。为了更好的转进7nm、5nm，台积电在不断的探索锗/三五族材料代替硅等等，甚至在2017年年初购买了5台极紫外光刻机。

10nm工艺良率太低 或致iphone8长期缺货 台积电仍有时间，可三星来不及了

新工艺良率低的问题在半导体工业上非常常见，正常上线的尖端光刻工艺良率一般在60%左右，如果低于这个良率，那就有仓促上线的嫌疑了。不过好消息是距离今年的旗舰iphone发布还有半年时间，台积电依然有足够的时间来改进良率低的问题。而高通则没有那么幸运了，因为他们计划在今年3月出货10nm处理器，三星的良率低短时间无法解决，将会导致客户抱怨和错失市场。

在2017年，英特尔与遭遇了极大的挑战，amd的zen架构强势回归，让他们尝到久违的压力。虽然英特尔并不会为此过度恐慌，不过明年他们也势必要拿出10nm的cannonlake，因为英特尔今年又跳票了10nm工艺。

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