通过正在进行的与ibm的项目合作，凸版印刷（toppan printing）公司宣布已经开发了用于32nm和28nm节点光学掩模的新的制造工艺。toppan表示，在日本asaka制造的光学掩模与ibm在essex junction工厂的掩模完全兼容，且得到了ibm的认证。
ibm和toppan去年宣布在32nm光学掩模工艺和22nm所有的掩模工艺上进行开发合作。toppan在2005年就开始与ibm合作攻克45nm节点。目前的工作包括支持22nm源掩模最优化（smo）的专门的掩模，toppan表示。smo是将光照源和掩模同时进行最优化，并被看作是实现22nm以及更高节点的沉浸式光刻的可行方法。
toppan表示通过与ibm合作的技术财产积累，该公司计划在2011年开始smo光掩模的批量生产。
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