8月5日，中国科学院半导体研究所发布厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目公开招标公告，预算金额800万元。

项目编号：oitc-g200331121

项目名称：中国科学院半导体研究所厚膜掺杂等离子体增强淀积设备、高质量离子束溅射镀膜系统采购项目

预算金额：800.0 万元(人民币)

最高限价(如有)：800.0 万元(人民币)

采购需求：

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