11月5日晚间，彤程新材料集团股份有限公司(股票代码：603650)发布关于光刻胶项目进展情况的公告。
公告称，公司全资子公司上海彤程电子材料有限公司(简称“彤程电子”)在上海化学工业区投资建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目的工程阶段已竣工，目前已逐步进入试生产阶段。
《彤程新材料集团股份有限公司
关于光刻胶项目进展情况的公告》部分内容
年产300/400吨arf及krf
光刻胶产线进入试生产
根据公告，公司上海化学工业区工厂占地36200平方米，设计能力年产1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯ebr试剂(光刻胶去边剂)。同时在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下，完成了产线优化及品控升级。
《彤程新材料集团股份有限公司关于光刻胶项目进展情况的公告》部分内容
在光刻胶产能建设情况方面，公司上海化学工业区工厂年产1千吨半导体光刻胶量产产线，主要包括年产300/400吨arf及krf光刻胶量产产线，通过采用超高纯pfa(涂层)设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统，可以实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控，具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。
年产300/400吨arf及krf
光刻胶产线进入试生产
稳定供应国内头部芯片制造商
在arf光刻胶产品方面，公司已经完成arf光刻胶部分型号的开发，首批arf光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段。产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。
在g线、i线及krf光刻胶产品方面，目前，公司g线光刻胶已经占据国内较大的市场份额，i线光刻胶已广泛应用于国内6"、8"、12"集成电路产线，支持的工艺制程涵盖14nm及以上工艺。krf光刻胶量产品种达20种以上，稳定供应国内头部芯片制造商。
在其他电子化学品项目建设及开发情况方面，为了解决arf光刻胶所需的高纯溶剂及国内先进工艺制程的需求，公司已经搭建完成高纯ebr装置，成为国内首家建有高纯ebr精馏塔设备及掌握高纯精馏技术的本土溶剂供应商。
公司生产的ebr溶剂已达到g4等级规格，可满足国内40纳米以下工艺制程的芯片制造技术需求，年产2万吨的规模量产能力可有效满足国内先进制程需求。预计第四季度将完成高纯度g5等级ebr的验证，已在国内几家先进芯片制造商中逐步推动产品验证。
来源：彤程新材
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